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更高處理量氣流磨

來(lái)源 :賽山粉體 作者 : 賽山

設(shè)備概述

均勻喂料通過(guò)均勻進(jìn)料器向氣流粉碎主機(jī)給料,并控制進(jìn)料速度粉碎由連接在給料器上的文丘管吸入粉碎主機(jī)內(nèi)部,粉碎腔壓力氣體和物料同時(shí)進(jìn)入粉碎機(jī),物料被高速氣流粉碎帶動(dòng),發(fā)生高速碰撞,產(chǎn)生粉碎效果。壓縮空氣伴隨成品進(jìn)入旋風(fēng)分離器,氣固分離氣粉混和物高速進(jìn)入上部圓筒體,粉料因質(zhì)量大向下旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)至下出口質(zhì)量小向上旋出,氣固實(shí)現(xiàn)分離尾氣過(guò)濾進(jìn)入的氣體中夾帶少量的粉塵被過(guò)濾筒(袋)阻隔。含塵氣體被過(guò)濾成潔凈氣體比較后從風(fēng)機(jī)出口排出,氣固徹底分離。

設(shè)備推薦使用場(chǎng)景

化學(xué)原料藥生產(chǎn)

新材料,高分子材料生產(chǎn)

設(shè)備基本參數(shù)

壓縮空氣耗量:20立方米/分鐘

壓縮空氣壓力:0.6-0.8Mpa